不同領域對硅溶膠純度的要求

一般地，硅溶膠是納米二氧化硅在水中的分散液，其成分比較簡單，主要是納米二氧化硅、水以及少量的穩定劑（Na⁺、K⁺、NH₄⁺等），但是硅溶膠中還有Fe₂⁺、Ca₂⁺、AI₃⁺等金屬雜質以及SO₄^2-、CI^-、NO₃^-等酸根雜質。

不同的應用領域對硅溶膠的純度有不同的要求。

（1）作為硅溶膠低端應用的鑄造、耐火材料、涂料等領域對硅溶膠的純度沒有特殊要求，這些領域使用的硅溶膠中鈉含量可以達到1000-2000ppm。

（2）催化劑應用領域會對硅溶膠的金屬含量有一定要求，過高的金屬雜質含量會影響催化效率，一般要求Na含量要小于1000ppm。但催化劑種類繁多，也有較高要求的，比如要求硅溶膠中的鈉離子含量小于100ppm。

（3）芯片拋光領域對硅溶膠的要求最高，芯片制造過程中要進行很多次的拋光，對于某些場合要求硅溶膠中金屬雜質的含量要小于1ppm。